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バンプ形成用マスク「Vella」


用途
CSP・BGA バンプ形成用マスク
SMT 0402チップ用マスク
CSPバンプ形成用印刷マスク製品写真


特長
1 孔部壁面粗さが更に平滑となりました
(当社従来品: Ra=0.3〜0.4μm Vella: Ra=0.1μm以下)
2 このためはんだペーストの抜け性が大幅に向上し、Φ80μm以下の印刷も可能となりました
3 大型高精度露光装置の採用により孔寸法精度は±3μm以下です(スキージ面側)


仕様
最大メタルサイズ 660mm×540mm
板厚 5μm〜90μm
板厚寸法精度 パターン部にて設定板厚の±5%(研磨加工が可能な場合)
孔寸法精度 設定値±3μm以下(母型=スキージ面寸法, Crマスクの場合)
ピッチ寸法精度 100mmスパンで±15μm以内(ガラスマスクの場合)

孔部拡大SEM写真  孔壁面粗度
孔部拡大SEM写真 孔壁面粗度


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